◆セミナー報告　≫第1回セミナー（17.07.20）報告

第1回　高周波アナログ半導体技術セミナー報告
□テーマ： 「ユビキタス社会における高周波シリコン技術」 □日　時： 平成17年7月20日（水）　15：00〜17：30 □場　所： 研究成果活用プラザ京都 　平成17年度からスタートした高周波・アナログ委員会の第1回セミナーが、7月20日京都市にある研究成果活用プラザ京都にて開催された。 　シリコン半導体の技術は近年益々向上し、これまでガリウム砒素などの化合物半導体が主に使われてきた高周波数の領域にも大きな役割を担うようになってきた。 　そこで今回、この分野で活躍されている、大学、産業界、ベンチャーのそれぞれを代表する専門の方々をお招きし、下記に示すようなテーマで、高周波領域でのシリコン技術の現状と今後の技術動向についての技術セミナを開催した。
◆基調講演．：｢RF用シリコン技術の展望｣ 　　　 　　　　　 松澤　昭氏　　東京工業大学　大学院　教授
◆講演１．：｢RF−CMOS技術の現状と今後｣ 　　　　　　　　　渡邊　祐氏　（株）富士通研究所
◆講演２．：｢SiGe　技術の応用｣ 　　　　　　　　　野上　一孝氏　　ザインエレクトロニクス（株）
□セミナ参加者　　４８名（大学・公的機関；７名、企業；３８名、その他；３名） 　 懇親会参加者　２５名（大学・公的機関；５名、企業；１８名、その他；２名） 　 講演は、それぞれの講師がそれぞれの立場から、最新のＲＦシリコン技術のトレンドを、大変分かりやすく話され、かつ海外ベンチャーの活躍も話されるなど、非常に興味深く、かつ今後の活動にとって大いに参考になるものだった。 　参加者は、上述のごとく有力大手企業からベンチャー企業にいたる、関西の多くの企業の参加を頂き、懇親会でも大いに盛り上がった。参加者の間でもセミナは大変好評で、無料ではもったいないとのご意見まで頂いた。 　 ＨＡＢ研についても、その活動についてご理解を頂き、今後多くのご支持を頂ける感触を得た。 　 大学関係者や公的機関の参加が少なく、その方面へのＰＲが今後の課題である。 　次は、ＨＡＢ研の設立、１１月のＨＡＢ研設立記念総会＆記念セミナ開催に向けて、活動する。